氧化鋯陶瓷材料憑借自身優(yōu)點(diǎn)逐步運(yùn)用在電子商品領(lǐng)域，Z典型的是在手機(jī)背板和智能穿戴上的應(yīng)用。陶瓷表面處理工藝中，拋光是非常重要的一環(huán)，但氧化鋯陶瓷的高耐磨性和高硬度導(dǎo)致其拋光加工難度較大。下面為大家介紹7種陶瓷拋光方法。

一、機(jī)械拋光

機(jī)械拋光是靠切削或使材料表面發(fā)生塑性變形而去掉工件表面凸出部分得到平滑面的拋光方法。一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主。表面質(zhì)量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件表加工表面上，作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。

機(jī)械拋光的機(jī)理是靠楔形擠壓和拋光液的反彈增加微切削作用和被加工材料的微塑性流動(dòng)作用達(dá)到拋光效果。

由于陶瓷手機(jī)背板的厚度較小，且機(jī)械拋光是直接接觸，摩擦可能導(dǎo)致工件出現(xiàn)應(yīng)力變形，溫度過高還可能使得晶格組織破壞，故在拋光過程中要注意溫度的控制。

二、化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）

利用拋光液腐蝕作用和機(jī)械去除作用的復(fù)合效果進(jìn)行拋光的方法。其Z大特征是粉末比加工物的機(jī)械性質(zhì)還軟，能夠與加工物發(fā)生固相反應(yīng)。在其與通常的拋光進(jìn)行同樣的滑動(dòng)運(yùn)動(dòng)時(shí)，粉末與加工物局部接觸點(diǎn)上產(chǎn)生機(jī)械-化學(xué)效應(yīng)的微小反應(yīng)部分由于摩擦力而發(fā)生脫落，加工得以進(jìn)行。

要獲得品質(zhì)好的拋光片，必須使拋光過程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到平衡。目前CeO2等軟質(zhì)拋光液廣泛用于陶瓷精密拋光。

三、超聲波拋光

超聲波拋光是將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場(chǎng)中，依靠超聲波的震蕩作用，使研料在工件表面磨削拋光。其主要作用是磨粒在超聲振動(dòng)下，以很大的速度和加速度不斷撞擊加工表面，對(duì)加工表面的微凸部分進(jìn)行微切削加工，從而達(dá)到拋光的目的。

超聲加工對(duì)各種結(jié)構(gòu)陶瓷、石墨等硬脆材料都可以進(jìn)行加工，其加工效率隨著材料脆性的增大而提高。而且工具對(duì)工件的作用力和熱影響較小，不產(chǎn)生變形、燒傷、變質(zhì)層。設(shè)備簡(jiǎn)單，使用維修方便，操作容易，成本較低。

四、電泳拋光

將電泳現(xiàn)象應(yīng)用于陶瓷工件的一種非接觸無損拋光方法。由于沒有外加載荷，脆硬性陶瓷材料的去除全部依賴粒子的碰撞和 微切削來實(shí)現(xiàn);連續(xù)的碰撞和微切削使陶瓷表面局部發(fā)生微疲勞剝落和極細(xì)微的犁削。

五、流體拋光

依靠流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的。不但可以進(jìn)行光整加工還可以去除毛刺，效果非常好，流體動(dòng)力研磨是由液壓驅(qū)動(dòng)，介質(zhì)主要采用較低壓力下流過性好的特殊化合物并摻入磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。

六、磁研磨拋光

磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場(chǎng)作用下形成柔性磨料刷，與工件相對(duì)運(yùn)動(dòng)，產(chǎn)生切削、刻劃、滑擦、擠壓和滾動(dòng)等現(xiàn)象，對(duì)工件研磨拋光。這種方法加工效率高，質(zhì)量好，加工條件容易控制。

七、磁研磨拋光

磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場(chǎng)作用下形成柔性磨料刷，與工件相對(duì)運(yùn)動(dòng)，產(chǎn)生切削、刻劃、滑擦、擠壓和滾動(dòng)等現(xiàn)象，對(duì)工件研磨拋光。這種方法加工效率高，質(zhì)量好，加工條件容易控制。